產品資料
半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器
產品名稱: 半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器
產品型號: CW 213nm
產品特點: 半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器連續波 · 213 nm 深紫外 · 半導體檢測 · 工業級5-500 mW · ±0.1 % 穩定性 · 真空 ≤1×10?? Pa · 5 年壽命 · 即插即用
半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器 的詳細介紹
半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器
半導體膜厚測定用深紫外連續波激光器
一、產品定位
- 半導體檢測工業用：膜厚測定、缺陷掃描、UV-Vis 光譜、反射率
- 連續波 213 nm：深紫外 DUV，連續波，5-500 mW，±0.1 % 穩定性
- 工業級：真空 ≤1×10?? Pa，0-180 ℃，工業級漂移
- Opt-Oxide CW 213nm：CW 連續波，213 nm，5-500 mW，即插即用
二、核心技術參數（CW 213nm）
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 波長 | 213 nm（深紫外 DUV） |
| 類型 | 連續波（CW） |
| 功率范圍 | 5 – 500 mW（連續可調） |
| 穩定性 | ±0.1 %（1 h，恒溫） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內置除塵窗） |
| 溫度范圍 | 0 – 180 ℃（全范圍） |
| 真空接口 | NW16（可轉 NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 接口 | FC/SMA905 光纖（真空饋通） |
| 尺寸/重量 | Φ25×80 mm，0.28 kg |
| 壽命 | 5 年（連續運行） |
三、功能亮點
- 213 nm 深紫外：DUV 連續波，適合 < 5 nm 超薄膜測定
- ±0.1 % 超高穩定性：1 h 漂移 < 0.1 %，膜厚重復性 < 0.01 nm
- 5-500 mW 連續可調：5-500 mW 連續可調，適合不同工藝段
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 0.28 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動，實驗室即用
- 5 年壽命：連續波無磨損，5 年免維護
四、典型應用系統
半導體膜厚測定┌─ 真空腔體 ─┐│ │激光← CW-213 ← 真空饋通 FC│ │└─ 光譜儀 ────┘- 真空度 ≤ 1×10?? Pa，213 nm 連續照射
- 光譜儀采集反射光譜，膜厚精度 ≤ 0.01 nm
五、實測數據（半導體驗證）
- 真空：1×10?? Pa，25 ℃
- CW-213nm：
- 功率 100 mW（±0.1 %）
- 穩定性 ±0.1 %（1 h）
- 壽命 5 年（連續運行）
六、選型與配件
| 件號 | 說明 |
|---|---|
| CW-213-VAC | 真空版（≤1×10?? Pa） |
| CW-213-AIR | 大氣版（內置除塵窗） |
| CW-213-FC | FC 光纖接口（真空饋通） |
| CW-213-DRIVER | 24 V 驅動器（含） |
一、產品定位
- 半導體檢測工業用：膜厚測定、缺陷掃描、UV-Vis 光譜、反射率
- 連續波 213 nm：深紫外 DUV，連續波，5-500 mW，±0.1 % 穩定性
- 工業級：真空 ≤1×10?? Pa，0-180 ℃，工業級漂移
- Opt-Oxide CW 213nm：CW 連續波，213 nm，5-500 mW，即插即用
二、核心技術參數（CW 213nm）
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 波長 | 213 nm（深紫外 DUV） |
| 類型 | 連續波（CW） |
| 功率范圍 | 5 – 500 mW（連續可調） |
| 穩定性 | ±0.1 %（1 h，恒溫） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內置除塵窗） |
| 溫度范圍 | 0 – 180 ℃（全范圍） |
| 真空接口 | NW16（可轉 NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 接口 | FC/SMA905 光纖（真空饋通） |
| 尺寸/重量 | Φ25×80 mm，0.28 kg |
| 壽命 | 5 年（連續運行） |
三、功能亮點
- 213 nm 深紫外：DUV 連續波，適合 < 5 nm 超薄膜測定
- ±0.1 % 超高穩定性：1 h 漂移 < 0.1 %，膜厚重復性 < 0.01 nm
- 5-500 mW 連續可調：5-500 mW 連續可調，適合不同工藝段
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 0.28 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動，實驗室即用
- 5 年壽命：連續波無磨損，5 年免維護
四、典型應用系統
半導體膜厚測定┌─ 真空腔體 ─┐│ │激光← CW-213 ← 真空饋通 FC│ │└─ 光譜儀 ────┘- 真空度 ≤ 1×10?? Pa，213 nm 連續照射
- 光譜儀采集反射光譜，膜厚精度 ≤ 0.01 nm
五、實測數據（半導體驗證）
- 真空：1×10?? Pa，25 ℃
- CW-213nm：
- 功率 100 mW（±0.1 %）
- 穩定性 ±0.1 %（1 h）
- 壽命 5 年（連續運行）
六、選型與配件
| 件號 | 說明 |
|---|---|
| CW-213-VAC | 真空版（≤1×10?? Pa） |
| CW-213-AIR | 大氣版（內置除塵窗） |
| CW-213-FC | FC 光纖接口（真空饋通） |
| CW-213-DRIVER | 24 V 驅動器（含） |
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